E500D是維開科技開發(fā)的一款研發(fā)型電子束蒸發(fā)系統(tǒng)，上下兩個腔室，互為進樣室，有效解決蒸發(fā)設(shè)備不易配進樣室的問題，可滿足中小批量生產(chǎn)和實驗平臺的高等級需求。

§ 自動進樣室：

單片/多片全自動進樣室，可選配

§ 抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵

§ 真空檢測：

全量程真空規(guī)

§ 電子槍功率：

最大10千瓦

§ 坩堝數(shù)量：

最多6個

§ 離子源：

考夫曼/霍爾離子源

§ 膜厚監(jiān)控：

晶振控制器

§ 掛具類型：

穹頂式/平盤

§ 工件角度：

-45°至+45°可調(diào)

§ 極限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盤控溫：

室溫至500℃

§ 均勻可鍍區(qū)：

最大?260mm

§ 鍍膜均勻性：

±2%

§ 鍍膜重復(fù)性：

±2%

§ 占地面積：

3.2m（長）*2.4m（寬）*2.8m（高）