C500是維開科技開發(fā)的一款生產(chǎn)型多腔室磁控濺射系統(tǒng)，功能強(qiáng)大，可擴(kuò)展性強(qiáng)，穩(wěn)定可靠，自動(dòng)化控制程度高，可滿足半導(dǎo)體級(jí)別的批量生產(chǎn)需求。

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真空工藝腔：

最多5個(gè)

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工藝條件：

磁控濺射/除氣/預(yù)清洗

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真空進(jìn)樣室：

最多2個(gè)

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自動(dòng)進(jìn)樣室：

集成BROOKS系統(tǒng)

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離子源：

可選配直流/射頻離子源

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抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

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真空檢測(cè)：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

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流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計(jì)

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極限真空度：

1E-5Pa

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工件盤控溫：

-50℃至500℃

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均勻鍍膜區(qū)：

?300mm

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均勻刻蝕區(qū)：

?250mm

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鍍膜/刻蝕均勻性：

±2%

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占地面積：

3.73m（長(zhǎng)）*2.75m（寬）*2.2m（高）