V550是維開科技開發(fā)的一款離子源增強型反應磁控濺射系統(tǒng)，膜層質量好，自動化程度高，維護簡單，可滿足企業(yè)和研究所研發(fā)小批量生產需求。

§ 真空進樣室：

單片/多片全自動進樣室，可選配

§ 抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵

§ 真空檢測：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

§ 流量控制：

數(shù)字式質量流量計

§ 濺射電源：

直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 偏壓：

射頻/脈沖直流

§ 離子源：

射頻&考夫曼&霍爾離子源，可選配

§ 濺射靶槍：

最多2個

§ 極限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盤控溫：

-50℃至800℃

§ 均勻可鍍區(qū)：

最大?200mm

§ 鍍膜均勻性：

±2%

§ 鍍膜重復性：

±2%

§ 占地面積：

3.61m（長）*2.7m（寬）*2.4m（高）