E1100D是維開科技開發(fā)的一款生產(chǎn)型電子束蒸發(fā)系統(tǒng)，鍍膜面積大，工作穩(wěn)定，自動化控制程度高，維護(hù)簡單，可以滿足大批量生產(chǎn)和大尺寸工件蒸發(fā)鍍膜的需求。

§ 抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

§ 真空檢測：

全量程真空規(guī)

§ 電子槍功率：

最大10千瓦

§ 坩堝數(shù)量：

最多8個

§ 離子源：

射頻/考夫曼/霍爾離子源

§ 膜厚監(jiān)控：

晶振控制器

§ 掛具類型：

穹頂式/行星式

§ 極限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盤控溫：

室溫至300℃

§ 均勻可鍍區(qū)：

最大?960mm

§ 鍍膜均勻性：

±2%

§ 鍍膜重復(fù)性：

±2%

§ 占地面積：

3.9m（長）*5.0m（寬）*3.2m（高）