原理：

　　電阻蒸發(fā)是在真空條件下利用大電流通過(guò)蒸發(fā)舟加熱所需要蒸發(fā)的材料，使其在高溫下融化蒸發(fā)或升華，氣化的材料向基板輸運，在基底上凝結形成薄膜的方法。通過(guò)調節所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率。通常適合熔點(diǎn)低于1500℃的金屬薄膜的制備。

優(yōu)勢：

• 操作簡(jiǎn)單，設備購置成本低；

• 可定制各類(lèi)專(zhuān)用蒸發(fā)舟，適于多種特殊材料的蒸發(fā)；

• 蒸發(fā)源體積小，可在同一個(gè)爐腔內配置多達10個(gè)蒸發(fā)源；

• 蒸發(fā)速率快，可實(shí)現批量生產(chǎn)；

• 適合搭配晶振控制器，精確控制薄膜生長(cháng)。

用途：

　　主要應用在半導體、微電子、裝飾、紅外、生物、能源等領(lǐng)域。

我們的電阻系統：

　　維開(kāi)可以為不同領(lǐng)域的客戶(hù)提供多種電阻蒸發(fā)產(chǎn)品，可以選配各種蒸發(fā)舟，適合銦(Indium)、硫化鋅(ZnS)、有機物蒸發(fā)工藝，還可以選配離子源實(shí)現離子束輔助沉積。