M800是維開(kāi)科技開(kāi)發(fā)的一款高精度型磁控濺射系統，鍍膜均勻性高，維護簡(jiǎn)單，可以滿(mǎn)足批量生產(chǎn)需求和實(shí)驗室對高精度/反應型磁控濺射工藝的需求。

§ 不銹鋼真空腔：800mm（寬）*550mm（高）

§ 均勻可鍍區： 5*?300mm

§ 鍍膜均勻性：±0.5%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤(pán)控溫：室溫至350℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍?zhuān)鹤疃?/span>6個(gè)

§ 濺射電源：直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 離子源：可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進(jìn)樣室：可選配全自動(dòng)進(jìn)樣室

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質(zhì)量流量計

§ 占地面積：1.8m（長(cháng)）*2m（寬）*2.2m（高）

　如需詳細信息，敬請　聯(lián)系我們