I2000 是維開(kāi)科技開(kāi)發(fā)的一款鏈式生產(chǎn)型磁控濺射系統，鍍膜面積大，工作穩定，自動(dòng)化控制程度高，維護簡(jiǎn)單，可以滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)需求和大尺寸工件濺射鍍膜的需求。

§ 不銹鋼真空腔：2200mm（長(cháng)）*950mm（寬）*200mm（高）

§ 均勻可鍍區：600mm（長(cháng)）*600mm（寬）

§ 鍍膜均勻性：±5%

§ 極限真空度：1E-5Pa

§ 工件盤(pán)控溫：室溫至350℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍?zhuān)鹤疃?/span>5個(gè)

§ 濺射電源：直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 離子源：可選配直流/射頻離子源

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進(jìn)樣室：可選配全自動(dòng)進(jìn)樣室

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質(zhì)量流量計

§ 占地面積：2.5m（長(cháng)）*1.5m（寬）*1.7m（高）

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