M600 是維開(kāi)科技開(kāi)發(fā)的一款通用型磁控濺射系統，功能強大，穩定可靠，自動(dòng)化控制程度高，維護簡(jiǎn)單，可廣泛滿(mǎn)足生產(chǎn)和研發(fā)中對磁控濺射的工藝需求。

§ 不銹鋼真空腔：600mm（寬）*550mm（高）

§ 均勻可鍍區：最大?300mm

§ 鍍膜均勻性：±2%

§ 極限真空度：9E-6Pa

§ 工件盤(pán)控溫： -50℃至800℃

§ 偏壓：射頻/脈沖直流

§ 濺射靶槍?zhuān)鹤疃?/span>5個(gè)

§ 濺射電源：直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 抽氣系統：低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵/普通機械泵

§ 進(jìn)樣室：可選配全自動(dòng)進(jìn)樣室

§ 真空檢測：全量程真空規+薄膜真空規

§ 流量控制：數字式質(zhì)量流量計

§ 占地面積：1.8m（長(cháng)）*1.8m（寬）*2.2m（高）

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